Deskripsi Produk
PEES (pEES) membawa kelompok pelindung etoksietoksi yang labil terhadap asam, yang dapat dengan cepat dideproteksi dengan katalisis asam. Ini memiliki stabilitas termal yang baik dan pengotor logam yang sangat rendah. Ini dapat dipolimerisasi untuk menyiapkan polihidroksistirena (PHS) untuk fotoresist KrF yang diperkuat secara kimia dengan resolusi tinggi.
Spesifikasi Produk
| Nama Produk | PEES/4-(Etoksietoksi)stirena |
| NO KAS | 157057-20-0 |
| ITEM NO | M120 |
| Penampilan | Cairan bening tidak berwarna |
| Kemurnian | Lebih besar dari atau sama dengan 99% |
| Kadar air | Kurang dari atau sama dengan 0,05% |
| Pengotor ion logam | Kurang dari atau sama dengan 1 ppb |
| Kemasan | 100g/1kg/10kg dll. |
| Pengiriman | 2-3 hari |
| Penyimpanan | suhu kamar |
| MSDS/COA/TDS | Hubungkan kami |
Aplikasi Produk
PEES (p-(1-Ethoxyethoxy) styrene) terutama digunakan untuk sintesis resin fotoresist KrF dalam mikroelektronika semikonduktor, bahan polimer fungsional, dan industri penelitian dan pengembangan bahan baru yang canggih.
Pertanyaan Umum
T: Apa saja persyaratan penyimpanan untuk PEES?
A: Distabilkan dengan inhibitor TBC. Simpan dalam keadaan tersegel pada jarak 2~8 derajat dari cahaya. Isolasi udara dan sumber panas untuk mencegah polimerisasi vinil sendiri dan deproteksi dini oleh asam.
T: Apa prinsip monomer PEES dalam sistem resin fotoresist KrF?
J: PEES mengandung kelompok pelindung etoksietoksi yang sensitif terhadap asam. Fotoasam yang dihasilkan setelah paparan litografi memicu deproteksi. Resin berubah dari tidak larut alkali menjadi larut alkali untuk mewujudkan pengembangan pola wafer.
T: Perlindungan apa yang diperlukan untuk pengoperasian PEES menurut SDS?
Jawaban: Ini mengiritasi mata, kulit dan saluran pernapasan. Pengoperasian harus dilakukan di lemari asam dengan kacamata pelindung, sarung tangan tahan pelarut, dan pelindung wajah.
T: Apa perbedaan inti antara monomer fotoresist PEES dan pACS/PTBS?
A: PEES memiliki kelompok pelindung etoksietoksi dengan tingkat deproteksi asam yang cepat. pACS membutuhkan hidrolisis untuk deproteksi, PTBS memiliki gugus tert-butoksi. Mereka dirancang untuk sensitivitas fotoresist yang berbeda.
T: Apa yang terjadi pada kelompok monomer PEES yang tidak tahan asam selama pemaparan fotoresist KrF?
J: Fotoasam dihasilkan saat terpapar. Kelompok pelindung etoksietoksi membelah dengan cepat. Polimer berubah menjadi struktur hidroksil fenolik, berubah dari tidak larut dalam alkali menjadi larut dalam alkali untuk pengembangan pola litograf.
Tag populer: cas no:157057-20-0 pees/4-(ethoxyethoxy)styrene, Cina cas no:157057-20-0 pees/4-(ethoxyethoxy)styrene produsen, pemasok
